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无尘室 净化工程洁净要求比较高的,都会；无尘室根据洁净程度不同分很多等级；目前各半导体加工和面板组装厂的无尘室等级大都为1；1000级的概念是:每立方英尺内,大于等于0.5；100级的概念是:每立方英尺内,大于等于0.3的；注意了,每个等级所管控的颗粒大小也不一样；依据美国联邦政府颁布的标准；无尘室等级，无尘室标准，无尘室标准

无尘室根据洁净程度不同分很多等级

无尘室 净化工程目前各半导体加工和面板组装厂的无尘室等级大都为1000级和100级的居多 数字越小,洁净等级越高

1000级的概念是:每立方英尺内,大于等于0.5的灰尘颗粒不能超过1000颗

100级的概念是:每立方英尺内,大于等于0.3的灰尘颗粒不能超过100颗

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无尘室清洁度，共分为8个等级

无尘室 净化工程无尘车间标准-等级

美国联邦标准（< USA Federal Standard ）209E

洁净度级别 粒 径 (um)

0.1 0.2 0.3 0.5 5.0

1 35 7.5 3 1 NA

10 350 75 30 10 NA

100 NA 750 300 100 NA

1000 NA NA NA 1000 7

10000 NA NA NA 10000 70

100000 NA NA NA 100000 700

无尘室 净化工程一般清洁度是指空气的洁净等级，分为等级1、2???8，8阶段。在1立方公尺的空气中，粒径0.1微米的灰尘若是在10个以下时为

1；百个以下是100=102是等级2；千个以下时是1000=103等级3，一次类推。

无尘室 净化工程最尖端产业的发展，加速了产业结构的变革，无尘室设立之必要性也相对地提高。商品日渐的小型化和精密化，尘埃和温湿的变化对商品的完成度亦造成极大的危害，导致品质低下。伴随商品的高品质要求，环境无尘化的需求也日益提高。因此在无尘室中

用防尘材料及商品都显得格外重要。

无尘室 净化工程所谓的无尘室是一个人造的环境，里面含有的粒子远低于一般的环境，随着集成电路的级数的快速成长，也增加了对制造环境(无尘室)洁净度要求，在工业上即使使粒子之尺寸想小于0.1微米.也可能阻碍产品的运作或降低其寿命。优于纳米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断地增加，尘粒更容易使芯片失效或可靠度恶化。例如当金属尘粒落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。又如果有酸性的离子化合物尘粒掉在金属导线上，可能将其腐蚀，所以无尘室为集成电路制造不可或缺的要素。

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                        2017  7  23